真空電阻加熱蒸鍍是OLED器件中小分子成膜的主要技術,原理:電阻加熱是將有機物坩堝置入真空鍍膜機中,通過對坩堝內(nèi)部的電阻絲通電加熱使得坩堝中的有機材料得以蒸發(fā),然后向放置好的基板附著并形成薄膜,適合制備的薄膜厚度一般都在10nm-200nm。除了有機物蒸發(fā)之外,真空蒸鍍設備也適合做一些金屬電極的蒸發(fā)。
相關產(chǎn)品連接:http://www.hrstitr.cn/cn/product/product-Syskey-OLED.html

*以上圖片轉(zhuǎn)載自OLEDindustry微信公眾號
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