低壓化學氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積，可進行大面積小批量樣品沉積。

技術參數(shù)：

1 基片尺寸可定制，最大可達10 英寸；

2 最高加熱溫度 1700 ℃，單溫區(qū)或者多溫區(qū)可選；

3 最多可配置6路工藝氣體；

4 配備油泵或者干泵，可選配分子泵；

5 樣品水平，垂直兩種配置模式；

6 可小批量量產(chǎn)；

應用領域：

LPCVD

退火

擴散

氧化

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