把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程，稱為真空蒸發(fā)鍍膜，簡稱蒸發(fā)鍍膜或蒸鍍。

技術(shù)參數(shù)：

1 本底真空10^-7 Torr；

2 束源爐，坩堝，蒸發(fā)舟等；

3 石英晶振測量膜厚；

4 基片加熱溫度可選：300℃/500℃/850℃；

5 可配備離子束輔助沉積；

6 可配備快速進(jìn)樣室；

7 可與手套箱集成；

8 可根據(jù)用戶要求定制系統(tǒng)；