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蒸發(fā)鍍膜

  • 超高真空剝離工藝鍍膜設(shè)備
超高真空剝離工藝鍍膜設(shè)備

超高真空剝離工藝鍍膜設(shè)備

  • 超高真空
  • 剝離工藝
  • 鍍膜設(shè)備
  • 產(chǎn)品描述:超高真空剝離工藝鍍膜設(shè)備
  • 在線訂購(gòu)

設(shè)備特點(diǎn):

適用于最大6英寸晶圓,并向下兼容4英寸、2英寸晶圓以及不規(guī)則碎片
6英寸樣品范圍內(nèi)薄膜厚度均勻性優(yōu)于± 3%
鍍膜腔極限真空度優(yōu)于5x10-9 Torr
樣品水冷功能

工作原理:

超高真空剝離工藝是一種基于物理氣相沉積 (PVD)技術(shù)的專(zhuān)門(mén)工藝設(shè)備,它在真空下利用電子束直接加熱蒸發(fā)材料(通常是顆粒),并將蒸發(fā)的材料輸送到基板上形成一個(gè)薄膜。樣品臺(tái)需要具備特殊的水冷功能,確保在工藝過(guò)程中襯底保持在較低溫度,不會(huì)導(dǎo)致光刻膠的碳化,從而順利進(jìn)行后續(xù)的光刻膠剝離工藝。

腔體設(shè)計(jì):

腔體材質(zhì):SUS304L不銹鋼

腔體尺寸:約580 (D) mm × 900 (H) mm
CF100真空觀察窗(帶獨(dú)立擋板)× 2
CF200維護(hù)口 × 2,一上一下可轉(zhuǎn)接成O-ring ISO 160快開(kāi)門(mén),方便換材料及QCM;
O-ring ISO 160快開(kāi)門(mén) × 2
腔體烘烤夾克 150℃ × 1;

鍍膜T/S距離≥ 600 mm;

電子槍系統(tǒng):

Telemark 的電子槍
蒸鍍?cè)葱褪?坩鍋
電源供應(yīng):6 kW
6個(gè)坩鍋選擇
坩鍋容量15cc
發(fā)射電流調(diào)制穩(wěn)定性±0.5%
高壓線性調(diào)節(jié)范圍6 to 8 kV
電流短路于100 毫秒內(nèi)恢復(fù)
最大電流750 mA

快速進(jìn)樣腔:

腔體尺寸:約300 (D) mm × 250 (H) mm;

腔體材質(zhì):Al 6061;
上開(kāi)式腔門(mén) × 1;
真空觀察窗 × 1;


自動(dòng)樣品傳輸桿 x 1;

控制系統(tǒng):

控制系統(tǒng)是直覺(jué)式圖形作業(yè)系統(tǒng),提供了大量的功能,建立客戶制程應(yīng)用程序。真空系統(tǒng)軟件提供了分權(quán)管理,過(guò)程控制,數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)環(huán)節(jié),遠(yuǎn)程監(jiān)控與閥門(mén)聯(lián)鎖裝置。同時(shí)軟件包括圖表和圖形控制為您顯示來(lái)自數(shù)據(jù)采集、裝置采集的波形。

包含項(xiàng)目:
接口管理
自動(dòng)過(guò)程控制
數(shù)據(jù)記錄和歷史搜索
多層鍍膜設(shè)定
趨勢(shì)繪圖
安全聯(lián)鎖裝置和警報(bào)

















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